Оборудование для изготовления объектов
1.1. Оборудование для твердофазного синтеза и спекания по обычной керамической технологии ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/10.jpg) | 1. Печь камерная Модель:LT30/ 1300 Температура 1300°C, Точность 1 °C Назначение: Спекание керамики 2. Печь с циркуляцией воздуха Модель:30/850 С Температура 850 °C, Точность 1 °C Назначение: Спекание керамики |
3. Электропечь Модель: SNOL 30/1300 C Температура 1300 °C, Точность 1 °C Назначение: Спекание керамики 4. Электропечь Модель: SNOL 7/2/1300 C Температура 1300 °C, Точность 1 °C Назначение: Спекание керамики | ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/11.jpg) |
1.2. Установка для получения тонких эпитаксиальных плёнок сложных оксидов «Плазма 50СЭ» |
![Картинка 1 из 2](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/13.jpg) |
Установка предназначена для получения методом реактивного ВЧ распыления тонких пленок сложных оксидов. Состав: - Камера распыления;
- Система вакуумной откачки;
- Система ВЧ питания;
- Система подачи технологических газов;
- Система управления;
- Устройство подъема стола;
- Механизм перемещения.
| |
1.3. Оборудование для пробоподготовки |
Прецизионный станок алмазной проволочной резки. Модель: STX-602 . Рез 0,3 мм Точность 10 мкм Назначение: прецизионная резка керамических заготовок и пластин на элементы алмазной проволокой | ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/13.jpg) |
Высокоточный универсальный отрезной и шлифовальный станок. Модель: Accutom 50. Точность 50 мкм. Назначение: прецизионная резка и шлифовка керамических заготовок и пластин. | ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/14.jpg) |
Прецизионный автоматический станок для шлифовки и полировки. Модель: UNIPOL1502 (15") Назначение: финишная автоматическая шлифовка и полировка керамических заготовок и пластин. | ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/15.jpg) |
Наверх
Оборудование для изучения микроструктуры
2.1. Прецизионные оптические микроскопы ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/21.jpg) | Модель: Leica DMI 5000M Стол: моторизованный Методы: Все возможные как для проходящего, так и для отражённого света. Увеличение: до 2000 кратного |
Модель: Axio Imager.Z1m(Сarl Zeiss) Стол: моторизованный Увеличение: до 2000 кратного | ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/22.jpg)
|
Наверх
Оборудование для исследования электрофизических свойств объектов
3.1. Измерительная система на базе широкополосного диэлектрического и импедансного спектрометра с температурным контроллером
Concept 40 System
(Novocontrol)
![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/31.jpg)
В комплект оборудования входят:
Concept 40 (с QUATRO криосистемой);
Термосистема Novotherm-HT 1400;
Опция для термостимулированных деполяризационных токов TSDC;
Высоковольтный блок питания HVB 1000;
Устройство нанесения покрытий серии SCV;
Полный пакет программного обеспечения на базе Windows –приложения;
Устройство сбора данных; прецизионный измеритель импеданса Agilent 4294A.
Назначение: Измерительный комплекс Novocontrol Сoncept-40 Systems с термо - и криоприставками, высоковольтными и измерительными принадлежностями предназначен для измерения с помощью электропроводной, диэлектрической и импедансспектроскопии свойств активных материалов в широком диапазоне внешних воздействий (температура, давление, электрическое поле).
3.2. Комплект измерительных приборов
Компактный измеритель LCR Agilent 4263B; Прецизионный измеритель LCR Agilent E4980A; Измеритель больших сопротивлений Agilent 4339B; Частотомер Agilent 53132A; Измеритель ёмкости Agilent 4268A; Измеритель ёмкости Agilent 4288A; Прецизионный измеритель LCR Agilent 4285A; Прецизионный анализатор импеданса цифровой WK 6500B; Широкополосный тестер APC Wide-Range d33; Прецизионный измеритель импеданса Agilent 4294A; Комбинированный анализатор сигналов Agilent 4395A; Осциллограф запоминающий Wavesurfer 24 XS; | ![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/32.jpg) |
![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/33.jpg) |
![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/34.jpg) |
![](/pls/rsu/docs/u/U5482/Folders/image/35.jpg) |
Назначение: Исследование диэлектрических и пьезоэлектрических характеристик материалов в широком температурном и частотном диапазонах. |
Наверх